其他工业

光刻工艺过滤

光刻胶是微电子行业的工艺流程中设计到微细图形加工的关键材料之一。例如集成电路的生产中就使用了光刻胶，印刷工业也是光刻胶的另一重要应用领域，同时还有模拟半导体、发光二极管、太阳能光伏、生物芯片、光电子器件/光子器件等领域。光刻胶的生产使用技术复杂，品种较多，衡量标准也很多，光刻胶的比重是衡量光刻胶密度的重要指标，较大的比重意味着光刻胶中固体的含量更多，粘滞性越高、流动性更差。越小的粘滞性就越有均匀的光刻胶厚度。

光刻胶生产有着严格的洁净度要求，通滤科技结合产品过滤实际，各种污染物，金属离子的析出要求，制定了这类特殊产品的过滤解决方案，确保了产品的质量。

电子化学品过滤

电子化学品又称电子化工材料。即电子元器件、印刷线路板、工业及消费类整机生产和包装用各种化学品及材料。主要有基板、光致抗蚀剂、电镀化学品、封装材料、高纯试剂、特种气体、溶剂、清洗前掺杂剂、焊剂掩模、酸及腐蚀剂、电子专用胶黏剂及辅助材料等大类。

高品质电子化学品是保证半导体、液晶显示、太阳能行业产品的优质品质的重要产品之一，因此电子化学品对其生产过程中的颗粒以及金属离子的控制有着非常苛刻的要求。

通滤科技为您制定化学品过滤系列滤芯的高效率、低析出的特点能够满足多种苛刻条件的化学品过滤，保证化学品的高品质。

FPD湿制程过滤

FPD湿制程主要是针对平板液晶显示、半导体、触摸屏、五金电镀、太阳能、PCB（印制电路板）、LCD（液晶显示器）、LED（发光二极管）等技术领域的工艺

电子行业中多种复杂的工艺和领域都有涉及FPD湿制程工艺，湿法设备几乎占据工艺的30%以上，所以在工艺过程中，清洗、显影、刻蚀、剥离都是有严格要求的。比如在PCB的湿制程中，通常使用醋酸、硝酸等混合酸液进行蚀刻工艺处理。蚀刻液的洁净度会直接影响到PCB**终成品的性能和效果，因此湿制程中各种蚀刻液，剥离液，甚至是各种化学品、化学药液等用品的洁净度是非常重要的，这些溶液的过滤就显得非常重要。

厂务系统过滤

半导体制造等过程中，厂务系统要为FAB的生产制造大批量，长时间不间断的供应用洁净的工艺气体，超纯水，超净电子化学品等。

厂务系统要为各种工艺流程提供支持应援工作，主要包括一般气体和特殊气体的供应、超纯水供应、中央化学品的供应、洁净室的湿度空气洁净度的维持、废水和废气的处理、冷却水的供应等。所以对过滤的稳定性也有很高的要求。

过滤目的:

    去除药液、水中的颗粒、凝胶物。

过滤要求：

    1流量大,机械强度高,寿命长;

    2过滤效果好。

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